一、行业简介
        半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
二、应用范围
1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
三、工艺简介
1、系统模块化设计，共分四部分：预处理系统、反渗透系统、EDI系统、终端供水系统。
2、预处理系统主要用来去除原水中的悬浮物、浊度、色度、胶体以及部分有机物，保证产水符合反渗透系统的进水水质要求。
3、反渗透系统主要用来去除原水中溶解性盐类物质、细菌、热源等，保证产水符合EDI系统进水水质要求。
4、EDI系统主要用来对反渗透产水进行进一步脱除溶解性的小分子盐类物质，产水达到电阻率达到15MΩ.cm以上。
5、终端供水系统主要是用来将合格水输送至用水点，输送过程中对EDI产生进行最后的离子交换脱盐，使得产水达到电阻率达到18MΩ.cm以上。
6、整个系统进行集中控制。

四、技术特色
1、系统模块化设计，占地面积小，操作维护方便，安装方便快捷，整体美观。
2、整套系统实现全自动化运行，并且手动与自动自由切换。
3、设备产水水质稳定，运行连续稳定。
4、系统工艺先进，无需化学药品再生，无危害性废液排放。
5、系统节水率高，系统回收率在75%以上。
6、关键部位采用在线仪表监测，适时数据上传。
五、设备参数
1、系统回收率：
        超滤≥90%
        一级反渗透≥75%
        二级反渗透≥85%
        EDI系统≥90%
2、设备产水符合《电子超纯水国家标准》 （GB/T1144.6.1-1997）或美国半导体工业纯水指标。
3、单支膜脱盐率≥99.5%（水温25℃）。